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真空納米鍍膜工藝過程

時間:2019-03-28| 作者:Admin

真空納米鍍膜沉積過程分為三步: 

1.首先在真空條件下, 以120℃將固態(tài)粉末狀的對二甲苯的二聚物 (di-para-xylylene; dimer) 加熱汽化;

2.然后以650℃ 將氣態(tài)的對二甲苯的二聚物 ,裂解為對二甲苯 (para-xylylene) 的 活性單體(monomer);

3.最后氣態(tài)活性單體在室溫下沉積并聚合成聚對二甲苯 (Poly-para-xylylene )的薄膜。

      當氣態(tài)單體進入沉積腔室,首先會彌漫在工件表面,當吸附到各個表面后開始聚合和結晶,直接形成固體,避免了液相的出現(xiàn),清除了厚度的不均勻和涂層的缺陷。(應用領域:LED行業(yè)、電子行業(yè)、醫(yī)療器械、印刷電路板、微電子、磁性行業(yè)、半導體、橡塑產(chǎn)品、文物保護、特殊領域)工能:絕緣強和耐高溫,抗腐蝕、耐酸堿、潤滑、防塵、防潮、透明、防水、抗老化。

真空納米鍍膜工藝流程圖.jpg

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